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ニュースリリース

日本TI、窒化ガリウムFETドライバICファミリに新製品を追加

2012年02月06日

柔軟性の高いローサイド・ゲート・ドライバにより、高効率と高電力密度を実現

SCJ-12-016

2012年2月6日

日本テキサス・インスツルメンツは、高密度パワーコンバータでMOSFETおよび窒化ガリウム(GaN)パワー電界効果トランジスタ(FET)とともに使用するローサイド・ゲート・ドライバを発表しました。新しい『LM5114』ゲート・ドライバは同期整流器や高力率コンバータなどのローサイド・アプリケーションでGaN FETおよびMOSFETを駆動します。2011年に発表した業界初の100VハーフブリッジGaN  FETドライバ『LM5113』を含むFETドライバ・ファミリ製品は、高性能テレコム、ネットワーキング、データセンタ・アプリケーションに使用されるハイパワーGaN FETとMOSFETに対し、包括的な絶縁型DC/DC変換ドライバ・ソリューションを提供します。詳細情報およびサンプル、評価ボードの注文については、www.tij.co.jp/gan-prjpをご覧ください。

『LM5114』は5Vの電源電圧とは独立したシンク/ソース出力を使用することにより、標準MOSFETとGaN FETを駆動します。『LM5114』は、大型あるいは並列型FETが使用される大電力アプリケーションで必要な7.6Aの高いピーク・ターンオフ電流性能を提供します。また、プルダウン強度の向上により、GaN FETの適切な駆動が可能になります。独立ソース/シンク出力により、ドライバ・パスでダイオードが不要になり、立ち上がり/立ち下がり時間の精密な制御が可能です。

TIはFETドライバ・ファミリとして、『LM5114』、新しくmicro SMDパッケージで提供する『LM5113』、3月にリリース予定の4A/8A『UCC27511』ローサイド・ゲート・ドライバのほか、GaN FET技術の利点を最大限に発揮できる製品を、2月6日から8日までフロリダ州オーランドで開催されるApplied Power Electronics Conference and Expo (APEC)  のブース401に出展します。APECはパワーエレクトロニクス専門家のための業界をリードするコンファレンスです。

LM5114』ローサイド・ゲート・ドライバの主な特長と利点:

・最適な立ち上がり/立ち下がり時間を実現する独立ソース/シンク出力により、効率の向上を実現

・+4V~+12.6Vの単一電源により、広範なアプリケーションをサポート

・0.23Ωオープン・ドレイン、プルダウン、シンク出力により、意図しないターンオンを防止

・7.6A/1.3Aピーク・シンク/ソース・ドライバ電流により、DV/DT耐量を最大化

・反転および非反転入力間の遅延時間マッチングにより、デッドタイム・ロスを低減

・12ns(代表値)の伝搬遅延時間により、高効率を維持しながら高いスイッチング周波数を実現

・VCCに関わらず最大14Vのロジック入力

・-40℃から +125℃までの動作温度範囲

価格、パッケージおよび供給について

 『LM5114』は量産出荷が開始されています。6ピンのSOT-23パッケージと露出パッド付きの6ピンLLP®パッケージで提供され、1,000個受注時の単価(参考価格)は0.58米ドルです。

TIのパワーマネージメント製品ラインナップの詳細については下記のサイトをご覧ください。

・新しいGaN FETドライバのサンプルと評価モジュールの注文: www.tij.co.jp/lm5114-prjp

・TIのGaN FETドライバ・ソリューションの全製品に関する情報:www.tij.co.jp/gan-prjp

・ラボで行った『LM5113』のデモ・ビデオ:www.tij.co.jp/lm5113-prvjp

※ LLP、Texas InstrumentsおよびNational Semiconductorはテキサス・インスツルメンツの登録商標です。その他のブランドおよび商標または登録商標は、各社の所有に属します。